功率半導體穩定性測試

以碳化矽 (SiC) 與氮化鎵 (GaN) 所構成的寬能隙 (Wide-bandgap) 功率半導體,必須採用針對特定用途特別設計的新式測試方法,因為傳統測試無法識別某些新式的故障作用。這類方法會影響實際用途,而根據 AQG 324 的定義,動態高濕高溫逆向偏差 (H3TRB) 或動態逆向偏壓 (DRB) 都能在驗證方面消除這項落差。

NI SET 動態 H3TRB 與 DRB 功率半導體測試系統

在恆溫恆濕環境中,DUT 會暴露於動態的汲極刺激源,且會因為電壓急升而出現高壓峰值。電壓改變會導致磁場快速變化,因而影響腐蝕作用。這個程序會讓 DUT 與絕緣材料加速劣化,最接近 DUT 的實際運作狀況。

 

這項測試是充分了解 SiC 與 GaN 離散元件或模組使用壽命的先決條件。動態 H3TRB/AC-HTC/DRB 測試系統的主要參數:

 

  • 每個系統最多能容納 240 個 DUT 通道,Vds 與最高汲極電壓不超過 1500 V
  • 支援單一 DUT 功能,包括漏電流量測、過電流保護以及電壓控制
  • 支援 DUT-active 與 DUT-passive 測試模式,並採用全自動的測試程序
  • 提供 0 Hz 至 500 kHz 的可設定輸出頻率,以及 25% 至 75% 的工作週期設定 (按 5% 遞增)
  • 可於最高溫度 85 °C、最高相對濕度 85% 的環境條件下運作,也可進行 AC-HTC 之類的測試

解決方案優勢

功率半導體劇烈變化:DRB (動態反向偏壓)

隙 (Wide-Bandgap) 穩定性測試方面挑戰

在這段影片中,NI 的 Gabriel Lieser 著重於探討 DRB 這項寬能隙裝置穩定性測試。了解以 SiC 和 GaN 元件進行這項穩定性測試的兩種方法,以及設定與執行測試時需要考慮的重點。

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NI 合作夥伴網路為全球社群,由頻域、應用與整體測試開發專家組成,並與 NI 密切合作,以滿足工程社群的需求。NI 合作夥伴是值得信賴的解決方案業者、系統整合商、顧問、產品開發人員,以及服務與銷售通道專家,擁有涵蓋諸多產業和應用領域的豐富技能。

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